掩膜空白行业报告涵盖了中国掩膜空白行业重点企业市场排名情况、竞争态势分析、掩膜空白价格及走势预测、掩膜空白营销情况、以及中国各地区的发展概况和优劣势、中国掩膜空白行业进出口情况。报告显示，2022年，中国掩膜空白市场规模达 亿元（人民币），全球掩膜空白市场规模达到 亿元，预计全球掩膜空白市场规模将在2028年达到 亿元，在预测期间，全球掩膜空白市场年复合增长率预估为 %。

按种类划分，掩膜空白行业可细分为低反射率铬膜掩模空白, 衰减相移掩模空白。2022年， 占掩膜空白行业 %的最大销售额份额，市场规模达 亿元。在预测期间内， 将会成为下游需求最大的种类，并预计达到 %的市场份额。

按最终用途划分，掩膜空白可应用于平板显示器, 触控行业, 电路板, 半导体, 其他的等领域。过去几年内 领域需求居高不减，2022年占据 %的最大市场份额。此外预计 领域在预测期内也将有极大的需求潜力，预计在2028年达到 亿元的市场规模。

国内掩膜空白行业主要企业包括Shin-Etsu MicroSi, Inc, Telic, AGC, ULCOAT, HOYA。其中， 、 和 是国内掩膜空白行业TOP3，2022年CR3约为 %。

 

 

掩模空白的重要性

掩模坯料是用于制作光掩模的原版。掩膜版在半导体芯片和液晶面板行业中发挥着不可替代的作用。此外，掩模坯料还可用于MEMS微机电系统和PCB印制电路板等领域。掩模坯料和光掩模在半导体芯片的生产中必不可少。它们是用于将微小、高度复杂的半导体电路图案转移到成为 IC 芯片的晶圆上的母板。要制作光掩模，它必须由不透明的薄膜和基材制成。然后，必须对其进行清洁和蚀刻。毛坯准备好后，将对其进行缺陷检查并用保护膜覆盖。这用于保护面罩免受污染和掉落的颗粒。由于一张光掩模可以制造大量的IC芯片，如果用来制作光掩模的掩模是空白的或者用作电路图形原板的光掩模有缺陷，就会生产出很多有缺陷的IC芯片，包括造成的缺陷细灰尘、划痕或不平整。半导体设备制造商希望消除此类缺陷。因此，需要一种掩模空白和光罩检测系统来检测可能存在的严重缺陷，以提高IC芯片制造过程的良率。 Lasertec 的主要产品是用于半导体的掩模检测系统和掩模空白检测系统。该公司在全球率先将半导体光掩模检测系统商业化，其技术有望成为下一代掩模空白检测系统的事实标准。此外，EUV掩模版的强大功能和优势带动消费，有利于行业发展。芯片制造商需要 EUV，因为使用当今的 193 纳米浸没式光刻和多重图案化来图案化微小特征变得越来越困难。多重图案化使用不同的步骤来减小结构的特征尺寸，但同时也增加了过程的复杂性。 EUV 光刻提供了允许直接打印 36 纳米及以下间距的线条和空间所需的路径，有效解决与多重图案化相关的周期时间、层内覆盖和掩模计数成本。 EUV 空白的供应商正在提高产量，并计划满足行业的质量和价格需求。例如，AGC 将增加 EUVL 光掩模空白的容量。同时，Hoya 在日本生产 EUV 掩模空白和成熟的光学空白，而其新加坡工厂则生产先进的光学空白。因此，掩模版坯的重要性决定了其在半导体产业链中的重要地位，其市场需求量不断增加。

半导体和电子行业的增长

掩模坯料市场的增长在很大程度上取决于半导体行业。半导体是具有特定电气特性的物质，是计算机和其他电子设备的基础。它通常是一种固体化合物，其在不同条件下的导电能力使其成为控制电流和日常电器的理论介绍。半导体制造在很大程度上依赖于光刻工艺，其中使用给定频率的光将所需图案转移到正在进行半导体加工的晶圆上。为了将图案转移到晶圆上，通常使用光掩模。半导体市场的增长归因于全球消费电子设备消费量的增加。人工智能、物联网和机器学习技术的出现为市场发展提供了新的机遇，帮助存储芯片在更短的时间内处理大量数据。随着大数据分析、人工智能和无人驾驶汽车技术商业化等应用对高性能半导体的需求持续增长，EUV 曝光作为下一代半导体制造技术越来越受到关注。这种趋势极大地促进了高效光掩模的生产。此外，工业应用对更快、更先进的存储芯片的需求也在不断增长。工业自动化和传感器在车辆中的使用推动了半导体应用。家庭可支配收入水平的提高、人口的快速增长和城市化进程的加快正在对传统和先进的消费电子设备产生巨大的需求。集成电路 (IC) 芯片存在于各种电子设备中，包括智能手机、游戏机、可穿戴设备、洗衣机、电视和冰箱，以实现高效和正常的功能。包括三星、苹果和索尼在内的几个领先的消费电子品牌正在大力投资推出新设备，以满足消费者对先进设备不断增长的需求，从而支持半导体行业的发展。随着半导体厂商积极扩大产能，需求不断增加，其制造工艺已迈向纳米级。通过使用硅 (Si)、锗 (Ge) 和砷化镓 (GaAs) 等材料，电子制造商已经能够取代笨重且不便携的传统电子设备。小型化半导体元件使电子设备更加紧凑和移动。因此，半导体行业的强劲增长推动了对 Mask Blanks 行业的需求。

掩模空白缺陷

EUV 掩模坯料用于极紫外光刻，这是一种极精细半导体的制造工艺，可实现更高性能的半导体。提高半导体性能对于下一代高速通信和自动驾驶所需的高级信息处理至关重要。随着高性能半导体生产规模的扩大，预计未来对EUV掩模坯料的需求将大幅增长。 EUV掩模坯是一种低热膨胀玻璃基板，其表面有各种光学镀膜。 EUV 掩模坯料由基板上的 40 到 50 或更多交替的硅和钼层组成。 EUV 掩模缺陷是实施 EUV 光刻的挑战之一。 EUV 掩模缺陷是衬底、多层空白和吸收体图案化缺陷的组合。在 EUV 掩模制造的每个阶段，都必须注意控制缺陷率。根据缺陷的来源，缺陷可以合并到毛坯的不同位置。由于化学机械抛光 (CMP) 或清洁工艺，基板上的基板凹坑和嵌入颗粒是一个主要问题，因为它们很小且通常难以检测。由于清洁、储存或处理而留在基板上的颗粒残留物是掩模空洞缺陷的另一个主要原因。其他重要来源是由于沉积工具内的材料处理和沉积过程而在多层内沉积的颗粒，以及在储存、清洁或处理后添加的沉积后凹坑或颗粒。为了降低风险，在缺陷检测、模式转换和缺陷修复方面取得了重大进展。几家公司正在开发或交付新的掩模检测系统，可以发现基于 EUV 的光掩模中的缺陷。但此类设备不成熟且价格昂贵，在实际应用中存在一定差距。因此，掩膜版缺陷成为行业进一步发展的制约因素之一。

Mask Blank是半导体光刻工艺中使用的光掩模的核心部分。随着半导体技术的发展，需要高分辨率的光掩模来形成精细的图案，以及可以支撑它的空白掩模。 Mask Blank 是用作制作光掩模的材料的玻璃基板。由这些 Mask Blanks 生产的 Masks 用于半导体集成电路的光刻生产，并形成宽度为 40 纳米以下的超精细图案。 Mask Blanks是在主要石英或钠钙玻璃基板上由铬或硅化钼基薄膜形成的产品。它们涂有对电子或激光束敏感的光敏抗蚀剂材料，用于蚀刻工艺制作电路图案。

 

 

 

报告出版商: 湖南贝哲斯信息咨询有限公司

 

企业概览:

Mask Blank 市场的主要参与者包括 HOYA、Shin-Etsu MicroSi, Inc.、AGC、S&S Tech、ULCOAT 等。其中，HOYA 在 2023 年的销售额和收入方面排名第一。

 

地区概述：

2022 年，日本 Mask Blank 市场份额为 35.71%。

 

产品类型细分：

按类型划分，低反射率镀铬薄膜掩模空白部分在 2022 年占据了最大的市场份额。

 

细分应用概况：

从应用来看，半导体领域从 2018 年到 2022 年占据了最大份额。

 

掩膜空白行业前端企业：

Shin-Etsu MicroSi

 Inc

Telic

AGC

ULCOAT

HOYA

 

产品种类细分：

低反射率铬膜掩模空白

衰减相移掩模空白

 

下游应用市场：

平板显示器

触控行业

电路板

半导体

其他的

 

掩膜空白市场调研报告第九章是对中国掩膜空白竞争格局的分析，该章节涵盖行业内主要企业基本情况、主要产品和服务介绍、销售量、销售收入、价格、毛利及毛利率等关键数据以及企业发展战略分析。此外，报告还对中国主要企业地理分布与国际竞争优劣势进行剖析，以帮助目标企业确定行业发展过程中的驱动素和阻碍因素，趋利避害。

 

本报告从掩膜空白行业宏观环境、产业链、类型、应用、地区和企业等多方面角度对中国掩膜空白行业的发展态势进行了详细分析，清晰地展示出中国掩膜空白行业的市场容量、重点领域、重点地区、掩膜空白行业竞争程度、发展优劣势等，并预测未来掩膜空白市场发展趋势与前景。

 

掩膜空白市场报告包含2019-2023年中国掩膜空白行业市场历史发展和数据分析以及2023-2029年市场增速与发展前景预测，并结合行业相关政策及最新行业动态更新，在报告的第四章节中对中国掩膜空白市场各细分区域（华北、华东、华中、华南地区）的发展程度、行业发展现状、优劣势等方面进行了分析。

 

完整版掩膜空白行业调研报告包含以下十二章节：

第一章： 掩膜空白的定义及特点、细分类型与应用、及上下游产业链概况的介绍；

第二章：中国掩膜空白行业上下游行业发展现状、当前所处发展周期及国内相关政策与行业影响因素的分析；

第三章：中国掩膜空白行业市场规模、发展优劣势、中国掩膜空白行业在全球市场中的地位、及市场集中度分析；

第四章：阐释了中国各地区掩膜空白行业发展程度，并依次对华北、华东、华南、华中地区行业发展现状与优劣势进行分析；

第五章：该章节包含中国掩膜空白行业进出口情况、数量差额及影响因素分析；

第六、七章：依次分析了掩膜空白行业细分种类与下游应用市场的销售量、销售额，同时也包含了各产品种类销售价格与影响因素以及主要领域应用现状与需求分析；

第八章：中国掩膜空白行业企业地理分布以及重点企业在全球竞争中的优劣势；

第九章：详列了中国掩膜空白行业主要企业基本情况、主要产品和服务介绍、掩膜空白销售量、销售收入、价格、毛利、毛利率、及发展战略；

第十章：中国掩膜空白行业发展驱动限制因素、竞争格局及关键技术发展趋势分析；

第十一章：该章节包含对中国掩膜空白行业市场规模、细分类型与应用领域市场销售量与销售额的预测；

第十二章：掩膜空白行业进入壁垒、回报周期、热点及策略分析。

 

目录

第一章 掩膜空白行业概述

1.1 掩膜空白定义及行业概述

1.2 掩膜空白所属国民经济分类

1.3 掩膜空白行业产品分类

1.4 掩膜空白行业下游应用领域介绍

1.5 掩膜空白行业产业链分析

1.5.1 掩膜空白行业上游行业介绍

1.5.2 掩膜空白行业下游客户解析

第二章 中国掩膜空白行业最新市场分析

2.1 中国掩膜空白行业主要上游行业发展现状

2.2 中国掩膜空白行业主要下游应用领域发展现状

2.3 中国掩膜空白行业当前所处发展周期

2.4 中国掩膜空白行业相关政策支持

2.5 “碳中和”目标对中国掩膜空白行业的影响

第三章 中国掩膜空白行业发展现状

3.1 中国掩膜空白行业市场规模

3.2 中国掩膜空白行业发展优劣势对比分析

3.3 中国掩膜空白行业在全球竞争格局中所处地位

3.4 中国掩膜空白行业市场集中度分析

第四章 中国各地区掩膜空白行业发展概况分析

4.1 中国各地区掩膜空白行业发展程度分析

4.2 华北地区掩膜空白行业发展概况

4.2.1 华北地区掩膜空白行业发展现状

4.2.2 华北地区掩膜空白行业发展优劣势分析

4.3 华东地区掩膜空白行业发展概况

4.3.1 华东地区掩膜空白行业发展现状

4.3.2 华东地区掩膜空白行业发展优劣势分析

4.4 华南地区掩膜空白行业发展概况

4.4.1 华南地区掩膜空白行业发展现状

4.4.2 华南地区掩膜空白行业发展优劣势分析

4.5 华中地区掩膜空白行业发展概况

4.5.1 华中地区掩膜空白行业发展现状

4.5.2 华中地区掩膜空白行业发展优劣势分析

第五章 中国掩膜空白行业进出口情况

5.1 中国掩膜空白行业进口情况分析

5.2 中国掩膜空白行业出口情况分析

5.3 中国掩膜空白行业进出口数量差额分析

5.4 中美贸易摩擦对中国掩膜空白行业进出口的影响

第六章 中国掩膜空白行业产品种类细分

6.1 中国掩膜空白行业产品种类销售量及市场份额

6.1.1 中国低反射率铬膜掩模空白销售量

6.1.2 中国衰减相移掩模空白销售量

6.2 中国掩膜空白行业产品种类销售额及市场份额

6.2.1 中国低反射率铬膜掩模空白销售额

6.2.2 中国衰减相移掩模空白销售额

6.3 中国掩膜空白行业产品种类销售价格

6.4 影响中国掩膜空白行业产品价格波动的因素

6.4.1 成本

6.4.2 供需情况

6.4.3 其他

第七章 中国掩膜空白行业应用市场分析

7.1 终端应用领域的下游客户端分析

7.2 中国掩膜空白在不同应用领域的销售量及市场份额

7.2.1 中国掩膜空白在平板显示器领域的销售量

7.2.2 中国掩膜空白在触控行业领域的销售量

7.2.3 中国掩膜空白在电路板领域的销售量

7.2.4 中国掩膜空白在半导体领域的销售量

7.2.5 中国掩膜空白在其他的领域的销售量

7.3 中国掩膜空白在不同应用领域的销售额及市场份额

7.3.1 中国掩膜空白在平板显示器领域的销售额

7.3.2 中国掩膜空白在触控行业领域的销售额

7.3.3 中国掩膜空白在电路板领域的销售额

7.3.4 中国掩膜空白在半导体领域的销售额

7.3.5 中国掩膜空白在其他的领域的销售额

7.4 中国掩膜空白行业主要领域应用现状及潜力

7.5 下游需求变化对中国掩膜空白行业发展的影响

第八章 中国掩膜空白行业企业国际竞争力分析

8.1 中国掩膜空白行业主要企业地理分布概况

8.2 中国掩膜空白行业具有国际影响力的企业

8.3 中国掩膜空白行业企业在全球竞争中的优劣势分析

第九章 中国掩膜空白行业企业概况分析

9.1 Shin-Etsu MicroSi, Inc

9.1.1 Shin-Etsu MicroSi, Inc基本情况

9.1.2 Shin-Etsu MicroSi, Inc主要产品和服务介绍

9.1.3 Shin-Etsu MicroSi, Inc掩膜空白销售量、销售收入、价格、毛利及毛利率

9.1.4 Shin-Etsu MicroSi, Inc企业发展战略

9.2 Telic

9.2.1 Telic基本情况

9.2.2 Telic主要产品和服务介绍

9.2.3 Telic掩膜空白销售量、销售收入、价格、毛利及毛利率

9.2.4 Telic企业发展战略

9.3 AGC

9.3.1 AGC基本情况

9.3.2 AGC主要产品和服务介绍

9.3.3 AGC掩膜空白销售量、销售收入、价格、毛利及毛利率

9.3.4 AGC企业发展战略

9.4 ULCOAT

9.4.1 ULCOAT基本情况

9.4.2 ULCOAT主要产品和服务介绍

9.4.3 ULCOAT掩膜空白销售量、销售收入、价格、毛利及毛利率

9.4.4 ULCOAT企业发展战略

9.5 HOYA

9.5.1 HOYA基本情况

9.5.2 HOYA主要产品和服务介绍

9.5.3 HOYA掩膜空白销售量、销售收入、价格、毛利及毛利率

9.5.4 HOYA企业发展战略

第十章 中国掩膜空白行业发展前景及趋势分析

10.1 中国掩膜空白行业发展驱动因素

10.2 中国掩膜空白行业发展限制因素

10.3 中国掩膜空白行业市场发展趋势

10.4 中国掩膜空白行业竞争格局发展趋势

10.5 中国掩膜空白行业关键技术发展趋势

第十一章 中国掩膜空白行业市场预测

11.1 中国掩膜空白行业市场规模预测

11.2 中国掩膜空白行业细分产品预测

11.2.1 中国掩膜空白行业细分产品销售量预测

11.2.2 中国掩膜空白行业细分产品销售额预测

11.3 中国掩膜空白应用领域预测

11.3.1 中国掩膜空白在不同应用领域的销售量预测

11.3.2 中国掩膜空白在不同应用领域的销售额预测

11.4 中国掩膜空白行业产品种类销售价格预测

第十二章 中国掩膜空白行业成长价值评估

12.1 中国掩膜空白行业进入壁垒分析

12.2 中国掩膜空白行业回报周期性评估

12.3 中国掩膜空白行业发展热点

12.4 中国掩膜空白行业发展策略建议

 

报告常见疑问：

报告中的例举企业是如何选择的？

我们选择在业内具有话语权的龙头企业进行分析，同时为了充分揭示掩膜空白行业竞争态势，报告还分析了发挥关键作用并具有巨大增长潜力的中小企业和新进入行业。

报告中的数据是从哪里获取的？

报告中的主要数据来源包括对主要意见领袖和行业专家及高管的访谈。次要数据来源包括对顶级公司的年报和财务报告、公共文件、新期刊等的研究。同时还来源于我们与一些第三方数据库的合作。

可以根据企业/个人的需求来自定义掩膜空白市场报告吗？

我们提供定制服务，可以根据用户的业务需求灵活调整，以实现更细致具有针对性的市场分析，帮助客户精准把握市场机遇，有效应对市场挑战。

 

报告编码：1623258